ultrasound cleaner 28 l Producenci

Przetwornik ultradźwiękowy 28 kHz jest podstawowym elementem urządzenia ultradźwiękowego, a jego charakterystyka parametrów określa wydajność całego urządzenia. Przetwornik ultradźwiękowy 28 kHz jest powszechnie stosowanym przetwornikiem warstwowym oprócz struktury magnetostrykcyjnej.

Przetwornik ultradźwiękowy 120W jest podstawowym elementem urządzenia ultradźwiękowego, a jego charakterystyka parametrów decyduje o wydajności całego urządzenia. Przetwornik ultradźwiękowy 120W jest powszechnie stosowanym przetwornikiem warstwowym oprócz struktury magnetostrykcyjnej.

Industrial Ultrasonic Cleaner serii RA to dwuczęstotliwościowe ultradźwiękowe urządzenie czyszczące odpowiednie do zastosowań przemysłowych. Generator ultradźwiękowy rdzenia wykorzystuje najbardziej zaawansowaną platformę technologii T, która ma wysoką wydajność czyszczenia, proste operacje i nie wymaga debugowania na miejscu. Może być szeroko stosowany w produktach metalowych, częściach samochodowych, czyszczeniu elektroniki, instrumentach medycznych, czyszczeniu szkła optycznego itp. .

Zanurzeniowa myjka ultradźwiękowa serii R to zintegrowane myjki ultradźwiękowe odpowiednie do zastosowań przemysłowych. Generator ultradźwiękowy z rdzeniem wykorzystuje zaawansowaną platformę technologiczną T, która ma wysoką wydajność czyszczenia, proste operacje i nie wymaga debugowania na miejscu. Zanurzeniowa myjka ultradźwiękowa może być szeroko stosowana w produktach metalowych, częściach samochodowych, czyszczeniu elektroniki itp.

Myjka ultradźwiękowa o podwójnej częstotliwości to ekonomiczność, niskie koszty eksploatacji i łatwy w obsłudze model dialogowy człowiek-maszyna, który pomaga szybko i łatwo wykonać zadanie czyszczenia. Instalacja to tylko kilka kroków, można ją umieścić w prawie wszystkich obszarach produkcyjnych.

Seria 100l Ultrasonic Cleaner RA to dwuczęstotliwościowa ultradźwiękowa maszyna czyszcząca odpowiednia do zastosowań przemysłowych. Generator ultradźwiękowy z rdzeniem wykorzystuje najbardziej zaawansowaną platformę technologiczną T, która ma wysoką wydajność czyszczenia, proste operacje i nie wymaga debugowania na miejscu. Może być szeroko stosowany w produktach metalowych, częściach samochodowych, czyszczeniu elektroniki, instrumentach medycznych, czyszczeniu szkła optycznego itp.